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Descrizione qualitativa
Sistema per la crescita e la deposizione di nanocluster metallici, compositi e semiconduttori (2-20 nm in diametro) preformati e selezionati in massa.
Caratteristiche tecniche
OAR NanoCluster source NC200U + Quadrupole Mass Filter QMF200, e camera di deposizione in Ultra Alto Vuoto (UHV).
Campi di applicazione
Crescita e deposizione di nanocluster metallici, compositi e semiconduttori preformati e selezionati in massa nel range compreso fra 2-20 nm in diametro.
Laboratorio: L04. Laboratorio di sintesi fisica di film sottili e nanoparticelle e caratterizzazione con spettroscopie elettroniche e a scansione
Responsabile: Paola Luches
Ubicazione: Piano Terra, Stanza: MO-17-00-037