Sistema in Ultra-alto-vuoto per analisi di superfici ed interfacce tramite spettroscopia XPS, UPS, HREELS e LEED a bassa corrente
Descrizione qualitativa
Sistema di preparazione, crescita e caratterizzazione di superfici e interfacce, dotato di evaporatori per la deposizione di molecole organiche, e di apparati per spettroscopie elettroniche (fotoemissione a raggi X e nell'ultravioletto, spettroscopia elettronica di perdita di energia (HREELS)) e per la diffrazione di elettroni (LEED).
Caratteristiche tecniche
Sistema in ultra-alto vuoto dotato di: sorgente di raggi X Mg/Al Ka (Omicron), sorgente UV, analizzatore elettronico Omicron EA125, LEED a bassa corrente (<10nA) OCI, apparato HREELS -LK5000 ad altissima risoluzione (2 meV), cannone ionico (0-3keV), riscaldatore e criostato, evaporatori per molecole organiche.
Campi di applicazione
Studio della composizione chimica di superfici e interfacce metalliche, semiconduttrici, polimeriche, ibride organico/inorganico. Caratterizzazione delle proprietàelettroniche, strutturali e vibrazionali.
Laboratorio: L03. Analisi fisico-chimiche di superfici e interfacce
Responsabile: Valentina De Renzi
Ubicazione: Piano Terra, Stanza: MO-17-00-035