Sistema per crescita e caratterizzazione di film sottili in condizioni di Ultra-alto-vuoto
Descrizione qualitativa
Sistema per la crescita e la caratterizzazione di film sottili e nanostrutture di metalli e ossidi. Crescita tramite reactive molecular beam epitaxy. Analisi tramite spettroscopia elettronica (Auger, XPS, UPS), e diffrazione elettronica da superfici (LEED).
Caratteristiche tecniche
Sistema da ultra-alto vuoto dotato di: apparato MBE per la deposizione reattiva, thermal cracker molecolare, sorgente di raggi X a doppio anodo (Mg/Al Kα), sorgente UV, analizzatore elettronico Omicron EA125, spettroscopia Auger, sistema LEED Omicron SpectaLEED, cannone ionico (0-5keV) Omicron, riscaldatori e criostato.
Campi di applicazione
Studio di materiali costituiti da metalli e ossidi per applicazioni in energetica, catalisi, ottica e biomedicina; studio di sistemi magnetici metallo/ossido per la registrazione e per la spintronica.
Laboratorio: L04. Laboratorio di sintesi fisica di film sottili e nanoparticelle e caratterizzazione con spettroscopie elettroniche e a scansione
Responsabile: Paola Luches
Ubicazione: Piano Terra, Stanza: MO-17-00-036